半導體酸堿氣體處理工程安裝,半導體酸氣凈化方法
半導體酸性廢氣來源:
半導體產業中的酸性廢氣主要來源于清洗工序,其中使用的清洗劑溶劑中含有大量酸性廢氣,主要成分為硝酸,硫酸,氫氟酸等,在工藝過程中,這些大部分通過揮發成為廢氣排放。
半導體酸性廢氣處理方法:
堿液體二級噴淋法,又稱化學洗滌法。
因液體自身具有的溶解特性,可以更好地利用酸堿中和去除污染物,而達到大氣排放標準,故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。
半導體酸性廢氣處理工作原理:
通過設備直接連接將廢氣收集起來,在風機的作用下將廢氣源源不斷向凈化設備輸送,再經過通風管道的輸送作用,使廢氣輸送到系統的噴淋塔內,氣體在噴淋塔塔內經過堿性洗液的噴淋洗滌過程,廢氣中所含有的容易產生酸霧的氣體成份充分與堿性水霧接觸混合并且發生中和反應,并且形成較好的氣液兩相交和。經過噴淋后的水霧再在洗滌塔內的填料層內形成一個多孔接觸面較大的處理層,從而進一步對酸霧進行治理。
半導體酸性廢氣凈化塔優點:
⑴半導體酸性廢氣處理設備工藝簡單,造價低,運行費用少,安裝方便,耐腐蝕;
⑵性能穩定,除塵效率高,脫硫效果好;
⑶重量輕,便于安裝、運輸及維修管理;
⑷特別適應水溶性含塵氣體;
半導體行業有機廢氣處理,目前一般采用吸附、焚燒或兩者相結合的處理方法。吸附是利用多孔性固體吸附劑處理混合氣體,使其中所含的一種或多種組分吸附在固體表面,達到分離的目的。吸附劑選擇性高,能分開其它過程難以分開的混合物,有效地清除或回收濃度很低的有害物質,凈化效率高,設備簡單,操作方便,且能實現自動控制。
半導體行業有機廢氣處理,目前國內一些大型半導體企業已采用沸石轉輪吸附濃縮后燃燒,該方法適用于大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理,凈化效率達到90%以上,濃縮比達20﹕
運行費用較低,設備處理風量大,占地面積小,不產生二次污染,可持續脫附并處理污染物。
根據企業實際運行情況,有機廢氣進氣濃度在200mg/m3以上時,處理效率達到95%;200mg/m3以下時處理 后濃度控制在20mg/m3,可保證廢氣達標排放。
VOCs排放濃度符合當地的排放標準,在半導體行業中該系統設備更科學、更安全、高效率的解決廢氣問題,性價比更高,且無二次污染。