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半導體行業要處理有哪些廢氣及方法
來源: | 發布時間:2023-2-24 16:24:00 | 瀏覽次數:

  半導體行業要處理有哪些廢氣及方法

  新材料半導體行業在加工的過程中采用清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑及揮發的廢氣主要成分為具有揮發性的VOCs廢氣怎么處理?

  新材料半導體行業的廢氣除了含有VOCs以外,還混有HCl、氨、HF等危險污染物,采用的是RTO蓄熱式焚燒爐來處理半導體行業的廢氣:工業廢氣中主要含有酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體四種,自身具有的溶解特性,半導體工業的氣體雖然排放量大,但是氣體的濃度低。

半導體廢氣處理方法 半導體異味溶劑處理辦法

  半導體廢氣采用的是洗滌塔進行處理的,洗滌塔分為立式和臥式,這兩者之間的區別就在于立式廢氣洗滌塔是氣液兩相逆流接觸,而臥式廢氣洗滌塔是氣液兩相交叉流接觸。

  洗滌塔廢氣處理設備主要由循環水箱、循環水管路、除霧層、填料層以及塔體組成,設備的工作流程大致為:酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪(達標排放)。

半導體酸氣處理方法-酸氣凈化塔

  除了采用洗滌塔設備還可以選擇采用沸石轉輪或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐。

  RTO設備采用的是高溫破壞焚燒的廢氣治理技術,升溫能源一般是電和天然氣,其高溫需高達700度或者以上,雖然溫度需高達700度左右,但是其實消耗的能源并不多,設備運行期間部分的熱能是能夠回收重新利用的,降低能量消耗的同時提高了廢氣分子的燃燒反應速率。

  旋轉式RTO工作原理:

  旋轉RTO的蓄熱體中設置分格板,將蓄熱體床層分為幾個獨立的扇形區。廢氣從底部經進氣分配器進入預熱區,使氣體溫度預熱到一定溫度后進入頂部的燃燒室,并完全氧化。凈化后的高溫氣體離開氧化室,進入冷卻區,將熱量傳給蓄熱體而氣體被冷卻,并通過氣體分配器排出。而冷卻區的陶瓷蓄熱體吸熱,“貯存”大量的熱量(用于下個循環加熱廢氣)。

  為防止未反應的廢氣隨蓄熱體的旋轉進入凈化氣出口去,當蓄熱體旋轉到凈化器出口區之前,設有一扇形區作為洗滌區。 通過蓄熱體的旋轉,蓄熱體被周期性的冷卻和加熱旋轉,旋轉RTO工作原理解析同時廢氣被預熱和凈化器冷卻。如此不斷地交替進行。

  半導體材料廢氣處理設備的凈化效率可維持穩定在99%以上。

  小知識:

  “新材料產業”包括新材料及其相關產品和技術裝備。具體涵蓋:新材料本身形成的產業;新材料技術及其裝備制造業;傳統材料技術提升的產業等。廢氣的主體是VOCs,同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物,分離和處理難度比較大

  半導體行業產生的廢氣通過分類密閉收集處理,有酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣、一般尾氣等。

  半導體器件制造有5個階段:(1)材料準備;(2)晶體生長和晶圓準備;(3)晶圓制造和探針測試(初測);(4)封裝;(5)終測。

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